本文目录光刻机是干什么用的,工作原理是什么?光刻机是干什么用的,工作原理是什么?光刻机的干刻与湿刻的优缺点?光刻机的干刻与湿刻的区别?光刻机是干什么用的,工作原理是什么?光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路,当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。–光刻机是制造微机电
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光刻机是干什么用的,工作原理是什么?
光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路,当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。–光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种,分别是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴芯片;以及利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样萊垍頭條
光刻机是干什么用的,工作原理是什么?
光刻机的作用是蚀刻芯片的功能及线路,当然也包括了制造处理器这样的大规模集成电路或者内存颗粒、闪存颗粒等等。–光刻机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种,分别是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴芯片;以及利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样
光刻机的干刻与湿刻的优缺点?
优缺点如下:萊垍頭條
湿法刻蚀?艺的优点是设备简单,刻蚀速率?,选择性?。缺点是湿刻蚀刻剂化学物质去除了掩膜材料下?的基板材料,还需要?量的蚀刻剂化学物质。此外,必须?致地替换蚀刻剂化学物质,以保持相同的初始蚀刻速率。结果,与湿蚀刻有关的化学和处理成本?常?。?蚀刻的?些优点是其?动化能?和减少的材料消耗,?刻(例如,等离?蚀刻)的成本更低。缺点是干刻的光源波长精度不如湿刻,因为湿刻是利用纯水压缩了光源波长。萊垍頭條
光刻机的干刻与湿刻的区别?
湿法刻蚀是将刻湿刻就是过程中有水加入,将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应,去掉不需要的部分,剩下的便是电路结构了,干刻目前还没有实现商业量产,其原理是通过等离子体代替化学溶液,去除不需要的硅圆部分。
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